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工(gōng)藝制程配套(Process supporting)

以設備機台爲服務對象,按其具體(tǐ)技術要求, 将動力主系統的各種

動力源安全/優質地銜接到機台,并保證機台長期持續正常運作。

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工(gōng)藝制造分(fēn)類
CPU制造工(gōng)藝:

在生(shēng)産CPU過程中(zhōng),要加工(gōng)各種電(diàn)路和電(diàn)子元件,制造導線連接各個元器件等。現在其生(shēng)産的精度以納米(以前用微米)來表示,精度越高,生(shēng)産工(gōng)藝越先進。在同樣的材料中(zhōng)可以容納更多的電(diàn)子元 晶圓局部件,連接線也越細,有利于提高CPU的集成度。制造工(gōng)藝的納米數是指IC内電(diàn)路與電(diàn)路之間的距離(lí)。制造工(gōng)藝的趨勢是向密集度愈高的方向發展,密度愈高的IC電(diàn)路設計,意味着在同樣大(dà)小(xiǎo)面積的IC中(zhōng),可以擁有密度更高、功能更複雜(zá)的電(diàn)路設計。微電(diàn)子技術的發展與進步,主要是靠工(gōng)藝技術的不斷改進。芯片制造工(gōng)藝從1971年開(kāi)始,經曆了10微米、6微米、3微米、1.5微米、1微米、800納米、600納米、350納米、250納米、180納米、130納米、90納米、65納米、45納米、32納米、22納米、14納米、10納米,一(yī)直發展到2019年最新的7納米,而5納米将是下(xià)一(yī)代CPU的發展目标。


GPU制造工(gōng)藝:

顯卡的制造工(gōng)藝實際上就是指顯示核心的制程,它指的是晶體(tǐ)管門電(diàn)路的尺寸,現階段主要以納米(nm)爲單位。顯示芯片的制造工(gōng)藝與CPU一(yī)樣,也是用微米來衡量其加工(gōng)精度的。制造工(gōng)藝的提高,意味着顯示芯片的體(tǐ)積将更小(xiǎo)、集成度更高,可以容納更多的晶體(tǐ)管。 NVIDIA的GM200芯片采用28nm的制造工(gōng)藝和中(zhōng)央處理器一(yī)樣,顯示卡的核心芯片,也是在矽晶片上制成的。微電(diàn)子技術的發展與進步,主要是靠工(gōng)藝技術的不斷改進,顯示芯片制造工(gōng)藝在1995年以後,從0.5微米、0.35微米、0.25微米、0.18微米、0.15微米、0.13微米、0.11微米、90納米、80納米、65納米、55納米、40納米、28納米、16納米、12納米一(yī)直發展到現在的7納米制程。顯卡廠商(shāng)AMD(超威半導體(tǐ))已經有三款7nnm工(gōng)藝顯卡在售。
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工(gōng)藝制造

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